隨著科技的不斷進(jìn)步，軟機(jī)器人代表了智能機(jī)器開發(fā)的新前沿，為醫(yī)療行業(yè)帶來了新的機(jī)遇。這種機(jī)器人以柔軟的材料和先進(jìn)的控制系統(tǒng)為基礎(chǔ)，能夠展示出新的能力，可以補(bǔ)充目前基于剛性材料的機(jī)器人所執(zhí)行的功能。在醫(yī)療領(lǐng)域，軟機(jī)器人的應(yīng)用已經(jīng)開始取得突破，特別是在微創(chuàng)手術(shù)方面，其潛在影響正在逐漸顯...
液壓是氣缸速度控制應(yīng)用的傳統(tǒng)方法。使用Proportion-AirF系列質(zhì)量流量控制器，就不需要傳統(tǒng)的液壓控制了。僅使用壓縮空氣即可控制氣缸的速度，使用比例空氣FA系列閉環(huán)質(zhì)量流量控制閥進(jìn)行控制。該產(chǎn)品響應(yīng)速度非?？?，您可以隨時(shí)調(diào)整速度。比例空氣封閉系統(tǒng)閥門非常精確。離開氣缸（到...
在半導(dǎo)體工業(yè)中，一種稱為化學(xué)機(jī)械平面化(CMP)的工藝用于拋光晶片。這些晶圓用于硬盤驅(qū)動(dòng)器和其他組件以存儲(chǔ)和檢索信息。CMP機(jī)器墊拋光是生產(chǎn)高質(zhì)量晶圓的關(guān)鍵步驟。此過程旨在去除多余的材料并形成光滑的表面。許多不同類型的焊盤可用于在晶片上創(chuàng)建所需的表面。然而，所有這些墊都必須以可重...
被稱為化學(xué)機(jī)械平面化(CMP)的工藝通常用于半導(dǎo)體行業(yè)，將硅晶片拋光成可用于硬盤驅(qū)動(dòng)器和其他計(jì)算機(jī)組件的產(chǎn)品。CMP拋光力控制是CMP工藝的重要組成部分。如果在整個(gè)拋光過程中施加的力不一致且不可重復(fù)，則晶圓會(huì)損壞——生產(chǎn)這些晶圓的過程非常昂貴。半導(dǎo)體晶圓經(jīng)過研磨和拋光至鏡面光潔度...
用硅晶片制造出平坦表面是集成電路制造的必要條件。當(dāng)您在納米范圍內(nèi)工作時(shí)，您需要確保您的氣動(dòng)裝置與您的工藝一樣精確。通過將施加在拋光墊上的壓力控制在小至滿量程的0.005%的增量，比例空氣閥提供了這種信任，同時(shí)也是業(yè)內(nèi)最高分辨率之一。在半導(dǎo)體工業(yè)中，晶圓是用于許多不同應(yīng)用的硅錠薄片...
航空航天工業(yè)在其組件和組件的生產(chǎn)和性能過程中依賴于精確和高質(zhì)量的測試。閉環(huán)壓力和真空控制是測試過程的重要組成部分。壓力和高度的不斷變化需要精確的儀表來確保航空航天設(shè)備的安全運(yùn)行。在航空航天工業(yè)中使用閉環(huán)壓力和真空控制裝置的各個(gè)領(lǐng)域包括：·由于頻繁的高度變化而對飛機(jī)部件進(jìn)行壓力測試...
輪胎行業(yè)應(yīng)用1-飽和硫化蒸汽溫度控制解決方案遠(yuǎn)程安裝的QB2比例閥控制，DSTY不銹鋼壓力傳感器，HP系列蒸汽調(diào)壓閥構(gòu)成閉環(huán)壓力控制系統(tǒng)，自動(dòng)對工藝過程中的蒸汽流量變化進(jìn)行補(bǔ)償，以*控制精度將壓力/溫度維持在所需水平（重復(fù)精度0.6%）。輪胎行業(yè)應(yīng)用1-飽和硫化蒸汽溫度控制解決方...
靜音無油空壓機(jī)OFCS-A38.4產(chǎn)品應(yīng)用：1.實(shí)驗(yàn)室：氣相色譜分析（G.C.），高效液相色譜分析（H.P.L.C.），離子色譜法（I.C.），光譜學(xué)（X-red，紅外，紫外線，AA，質(zhì)量，NMR），流變儀，粘度計(jì)，粒度分析儀，光學(xué)平臺(tái)，顯微鏡，發(fā)生器(膜)氮?dú)?，氧氣，無二氧化碳...
真空釬焊爐是在真空環(huán)境中對精密器械進(jìn)行熱處理的大型設(shè)備。能夠進(jìn)行真空釬焊、真空退火、真空時(shí)效等多種加工。因其能精確控制工件溫度加熱均勻、工件變形小,釬焊難焊的高溫合金材料,不用釬劑,釬焊質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)，在工業(yè)制造領(lǐng)域中得到迅速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用。電氣比例閥，作為真空釬焊爐壓力控制中...
光學(xué)平臺(tái)壓縮機(jī)的理想選擇--WERTHER*、便攜壓縮機(jī)光學(xué)平臺(tái)，又稱光學(xué)面包板、光學(xué)桌面、科學(xué)桌面，是供水平、穩(wěn)定的臺(tái)面，通常光學(xué)平臺(tái)都采用隔振等措施，保證其不受外界因素干擾，使科學(xué)實(shí)驗(yàn)得以正常進(jìn)行。目前光學(xué)平臺(tái)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、精密機(jī)械制造、冶金、航天、航空、航海、精密...
高分子膜式干燥器應(yīng)用行業(yè)：封閉母線微正壓裝置、波導(dǎo)增壓器/電纜充氣機(jī)、等離子系統(tǒng)--載體風(fēng)系統(tǒng)、空氣斷路器、船舶脫硫塔煙氣監(jiān)測系統(tǒng)、船舶廢氣排放監(jiān)測儀、船舶用呼吸空氣、碳弧氣刨機(jī)、呼吸空氣系統(tǒng)、制藥機(jī)、制粒機(jī)、加漿機(jī)、填充機(jī)、包裝機(jī)、藥品輸送、環(huán)境實(shí)驗(yàn)艙、高低溫環(huán)境試驗(yàn)箱、激光粒...
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